Fluoreszenzspektrometer X-RAY XDV®-µ

RöntgenfluoreszenzLaborMess

Röntgenfluoreszenz-Messgerät mit Polykapillar-Röntgenoptik zur automatisierten Messung und Analyse von Schichtdicke und -zusammensetzung auf kleinsten Bauteilen und Strukturen Merkmale • Für die Mikroanalyse optimiertes Messgerät • Abhängig von der Röntgenoptik können Strukturen von 100 μm Größe oder weniger analysiert werden • Sehr hohe Intensitäten und damit gute Präzision • Messunsicherheit für dünne Schichten < 1 nm möglich • Nur für ebene oder annähernd ebene Proben geeignet • Große, geräumige Messkammer mit C-Schlitz • Automatisierte Messung (Array Messung) mit schnellem, programmierbaren XY-Tisch Typische Einsatzgebiete • Messung von Schichtsystemen auf Leiterplatten, Leadframes und Wafern • Messung von Schichtsystemen auf kleinen Bauteilen und dünnen Drähten • Materialanalyse an kleinen Strukturen und kleinen Bauteilen