Schrankmodell-Ofen LP
Oxidation

Schrankmodell-Ofen
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Eigenschaften

Konfigurierung
Schrankmodell
Funktion
Oxidation

Beschreibung

Diese Maschine wurde entwickelt, um die Zelleffizienz durch Aufbringen einer Passivierungsschicht auf der Vorderseite des Siliziumwafers nach der Kantenisolierung und der PSG-Entfernung zu verbessern. Spezifikation Hoher Durchsatz: 14.400 Wafer/Stunde (2.400 Wafer/Boot) Zykluszeit: 60 Minuten Betriebszeit: 99%

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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.