Schrankmodell-Ofen LP
Diffusion

Schrankmodell-Ofen - LP - HANWHA MACHINERY - Diffusion
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Eigenschaften

Konfigurierung
Schrankmodell
Funktion
Diffusion

Beschreibung

Diese Maschine ist für das Dotieren von Phosphor und Bor zur Bildung von "p-n-Übergängen" ausgelegt, einer entscheidenden Komponente von kristallinen Silizium-Solarzellen. Spezifikation POCl₃ Hoher Durchsatz: 7.854 Wafer/Stunde (2.400 Wafer/Boot) Zykluszeit: 110 min Betriebszeit: 99% BBr₃ Hoher Durchsatz: 3.600 Wafer/Std. (2.400 Wafer/Boot) Zykluszeit: 240 min Betriebszeit: 99%

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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.