Mehrschicht-Beschichtungsmaschine

automatischfür Photovoltaikanwendung

Sie eignet sich für die Bereiche Halbleiter und Photovoltaik. Für TOPCon-Prozesszellen im Bereich der Photovoltaik kann die LPCVD-Anlage die Vorbereitung der Tunneloxidschicht/Polyschicht in einem Schritt abschließen. Die Kombination von thermischem Sauerstoff und Polyschichtabscheidung kann die Produktionskapazität erheblich steigern und ist gleichzeitig mit dem i/d-Poly-Wachstumsverfahren kompatibel. Wichtigste Merkmale Ausgereifter Prozess mit hoher Kapazität, Dual-Mode-Temperaturregelungstechnologie, Schutztechnologie für die Schichtdicke; Mit einer Vielzahl von Beschichtungstechnologien: mehrschichtiger Verbundfilm, dotierte Polysiliziumtechnologie; Patentierter schnell abkühlender Ofenkörper: Die neueste patentierte Technologie sorgt dafür, dass die Temperatur des Ofenkörpers schnell auf die erforderliche Temperatur sinkt, und die Abkühlungsrate kann um mehr als 25 % erhöht werden, wodurch die Temperaturgleichmäßigkeit im Ofenrohr deutlich verbessert werden kann; Schnelle adaptive Druckregeltechnik im geschlossenen Regelkreis; MES/CCRM-System mit vollständiger Architektur und hervorragender Leistung; Integrierter Industriecomputer + modulare Prozesssteuerungssoftware; Umfassende Sicherheitsbehandlung bei Stromausfall und Schutz des Flanschwassers bei Anomalien.