Mess-Überwachungsgerät C10346-01

ProzessEmissionsPlasma

Der Multiband-Plasmaprozess-Monitor C10346-01 ist ein System, das speziell für die Überwachung der optischen Plasmaemissionen entwickelt wurde, die während der verschiedenen Herstellungsprozesse von Halbleitern entstehen, einschließlich Ätzen, Sputtern, Reinigen und CVD. Der MPM kann mehrkanalige Aufzeichnungen in Echtzeit verarbeiten. Spezifikationen Typennummer : C10346-01 Wellenlängenbereich : 200 nm bis 950 nm Wellenlängengenauigkeit : ±0,75 nm Wellenlängenauflösung (FWHM) : <2 nm Spannungsversorgung : AC100 V bis AC240 V (50 Hz/60 Hz) Leistungsaufnahme : ca. 70 VA Digitaler Ausgangsanschluss (Bestimmungssignalausgang) : TTL maximal 5 Kanäle (3 Kanäle maximal, wenn Messtriggersignal verwendet wird Digitaleingangsklemme (Starttriggersignal für die Messung) : TTL 1 Kanal Verwendung von TTL 5 Kanal Digitale Ausgangsklemme (Busy-Signal) : TTL 1 Kanal Bei Verwendung von TTL 4 Kanal Analoge Ausgangsklemme : 2 Kanäle 0 V bis 10 V Anschluss für Fasertastkopf : SMA Kommunikationsschnittstelle : USB 2.0 Typ B Betriebsumgebungstemperatur : +10 ˚C bis +30 ˚C