Reflexionsmesssystem C11295

LichtDickenoptisch

Das Multipoint-NanoGauge-Dickenmesssystem C11295 ist ein Schichtdickenmesssystem, das die spektrale Interferometrie nutzt. Es ist für die Messung der Schichtdicke als Teil des Halbleiterherstellungsprozesses sowie für die Qualitätskontrolle der APC und Filme, die auf Halbleiterherstellungsanlagen montiert sind, konzipiert. Es ermöglicht eine Mehrkanalmessung in Echtzeit, was eine gleichzeitige Mehrkanalmessung und eine Mehrpunktmessung auf Filmoberflächen ermöglicht. Gleichzeitig kann es auch den Reflexionsgrad (Transmissionsgrad), die Objektfarbe und deren Veränderungen über die Zeit messen. Merkmale - Gleichzeitige Schichtdickenmessung an bis zu 15 Punkten - Referenzfreier Betrieb - Stabile Langzeitmessung durch Korrektur der Lichtintensitätsschwankung - Alarm- und Warnfunktion (Pass/Fail) - Reflexions- (Transmissions-) und Spektralmessungen - Hohe Geschwindigkeit und hohe Genauigkeit - Messung in Echtzeit - Präzise Messung von schwankendem Film - Analyse der optischen Konstanten (n, k) - Externe Steuerung verfügbar Spezifikationen Typennummer : C11295-XX*1 Messbarer Schichtdickenbereich (Glas) : 20 nm bis 100 μm*2 Reproduzierbarkeit der Messung (Glas) : 0,02 nm*3 *4 Messgenauigkeit (Glas) : ±0,4 %*4 *5 Lichtquelle : Xenon-Lichtquelle *6 Messwellenlänge : 320 nm bis 1000 nm Spotgröße : Ca. φ1 mm*4 Arbeitsabstand : 10 mm*4 Anzahl der messbaren Schichten : Max. 10 Schichten Analyse : FFT-Analyse, Fitting-Analyse Messzeit : 19 ms/Punkt*7 Faseranschlussform : SMA Anzahl der Messpunkte : 2 bis 15 Externe Steuerfunktion : Ethernet Schnittstelle : USB 2.0 (Hauptgerät - Computer) RS-232C (Lichtquelle - Computer) Spannungsversorgung : AC100 V bis AC240 V, 50 Hz/60 Hz