Harz für Halbleiter i-Line

lichtempfindlich

Umfangreiche Serie von mittel- bis hochempfindlichen Fotolacken für kritische bis unkritische Anwendungen mit einer Auflösung von unter 0,30 µm bis > 1,0 µm auf verschiedenen Substraten über einen großen Bereich von Lackdicken. Produkt-Übersicht - Fortschrittliche i-Line Resists für nicht-reflektierende Substrate Resistfamilien, die für anspruchsvolle kritische CD (500 nm CD) und robuste Strukturierung entwickelt wurden: - Serie OiR 305 - OiR 366-Reihe - OiR 906-Reihe - OiR 907-Reihe - Mehrzweck-Cross-over g- und i-Line-Resists Resist-Serien, die eine robuste Strukturierung für g-Linien, i-Linien und Breitband (>800 nm CD) bieten: - HiPR 6500-Reihe - HPR 510-Reihe - Gefärbte Resists für hochreflektierende Substrate Resistserie mit nicht ausbleichenden, hohen optischen Dichten für CD- und Notching-Kontrolle auf hochreflektierenden Substraten: - OiR 906MD - OiR 906HD - OiR 305HC - HiPR 6500GH - HiPR 6500HC - i-Line Resists für dickere Anwendungen Resistserie für dickere Schichtstrukturen mit Schichtdicken von 3 bis 13 µm: - FHi-560EP - GiR 3114 - OiR 305 - OiR 908