Optisches Messsystem CM300xi-SiPh
vollautomatischfür Waferzur Kalibrierung

Optisches Messsystem - CM300xi-SiPh - FORMFACTOR - vollautomatisch / für Wafer / zur Kalibrierung
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Eigenschaften

Technologie
optisch
Funktionsmodus
vollautomatisch
Gemessenes Produkt
für Wafer
Anwendung
zur Kalibrierung
Weitere Eigenschaften
Mikroskop

Beschreibung

300-mm-Sondenstation mit integrierter Silizium-Photonik-Wafer- und Die-Level-Probeing-Lösung Die CM300xi-SiPh 300 mm Probe Station ist die erste verifizierte, integrierte Messlösung auf dem Markt, die direkt nach der Installation ingenieur- und produktionserprobte, optimierte optische Messungen ermöglicht - ohne weitere Entwicklung. Dieser einzigartige autonome SiPh-Messassistent bietet eine bahnbrechende Reihe von Funktionen, die die optische Positionierungshardware präzise auf die Sondenstation kalibrieren und die Leistung des integrierten Systems verifizieren. In Kombination mit dem revolutionären OptoVue für erweiterte Kalibrierungen, intelligenten Bildverarbeitungsalgorithmen und dem exklusiven SiPh TopHat für dunkle, abgeschirmte und frostfreie Umgebungen ermöglicht das System eine wirklich freihändige autonome Kalibrierung und Rekalibrierung bei verschiedenen Temperaturen. Dies ermöglicht schnellere und genauere Messungen und geringere Prüfkosten. Die von FormFactor exklusiv entwickelten SiPh-Tools und das Photonics Controller Interface (PCI) bieten leistungsstarke Softwaretools für die Ausrichtung, Datenerfassung und -analyse. Dazu gehören alle notwendigen Algorithmen für die Verwendung von Fasern und Faserarrays mit Oberflächen- und Kantenkopplungsanwendungen.

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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.