Ultraviolette Pikosekundenlaser werden zum präzisen Halb- oder Vollschneiden von Silizium- und Verbindungshalbleiterwafern verwendet.
- Hohe Qualität
Die Schnittlinienbreite ist schmal (am Beispiel der Ultraviolett-Kollimation, Schnittlinienbreite + HAZ ≤ 20 ± 5 μ m) Kleiner Kanteneinbruch (≤ 10 μ m)
- Hoher Wirkungsgrad
UPH ≥ 10 (UV-Galvanometer: am Beispiel eines 3-Zoll-Doppelmesa-Siliziumdiodenwafers, einschließlich automatischer Ausrichtungszeit)
- Gute Stabilität
Der Laser hat eine hohe Pulsstabilität (≤ 2% RMS) und eine hohe Strahlqualität (M ² ≤1,2)
Beispielanzeige:
Schneidfront - 3-Zoll-Doppel-Mesa-Diodenlaser-Wafer-Vollschnitt; Korngröße: 300 * 300 μm, Waferdicke 130 μm, Schneidkanaldicke 30 μm.
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