Diese Anlage ist für Chipversiegelungs- und -prüfanlagen mit einer Größe von 8 Zoll und darüber konzipiert und wird in der Halbleiterindustrie für Low-k-Wafer und siliziumbasierte Gan-Wafer mit 40 nm und darunter eingesetzt.
- Hohe Qualität
Ultrakurzimpulsverarbeitung zur Reduzierung von Kanteneinbrüchen, Delamination und thermischen Einflüssen sowie hochpräzise visuelle Positionierung zur Gewährleistung der Schlitzposition
- Hohe Effizienz
Basierend auf der Technologie der räumlichen Lichtmodulation können Größe und Form des Formgebungspunktes angepasst werden, die Ausnutzung der Laserenergie ist hoch und die Reaktion ist schnell
- Hohe Integration
Integrierte Flüssigkeitsschutzbeschichtung, Wafer Slotting und Reinigungsmodul
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