Dickenmesssystem optischfür Waferfür Industrieanwendungen
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Eigenschaften
- Physikalische Größe
- Dicken
- Technologie
- optisch
- Gemessenes Produkt
- für Wafer
- Anwendung
- für Industrieanwendungen, für Elektronik
- Weitere Eigenschaften
- Hochpräzision, Hochgeschwindigkeit, 2-Achs
Beschreibung
Das unabhängig entwickelte spektrale konfokale Messsystem wird bei den Rohstoffproduktionsunternehmen im vorgelagerten Bereich der Halbleiterindustriekette eingesetzt, um die Größe und Ebenheit von Halbleiter-Roh- und Epitaxiewafern zu ermitteln.
Produktvorteile:
Breiter Anwendungsbereich
Geeignet für 4-8-Zoll-Originalwafer, Substrate und Epitaxiewafer aus verschiedenen Materialien und unter verschiedenen Polierbedingungen
Hohe Messgenauigkeit
Dickenbereich: 0-1mm Messgenauigkeit: ± 1 μ M Wiederholgenauigkeit: 0,2 μ m
Kurze Messzeit
Messzeit: 30s / PCS (nach der Erfassungsbahn des Kunden)
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Kataloge
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Specialized Products for Semiconductor Industry
* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.