UV-NIL-Lithografiesystem EVG®7300

Neue multifunktionale Mikro- und Nanoimprint-Lösung von EV Group bietet beispiellose Flexibilität für die Volumenproduktion optischer Bauelemente Der EVG®7300 ist das fortschrittlichste EVG-System, welches mehrere UV-basierte Prozesse, wie Nanoimprint-Lithographie (NIL), Linsenprägen und das Stapeln von Linsen (UV-Bonding) in einer gemeinsamen Plattform vereint EV Group (EVG), ein führender Entwickler und Hersteller von Anlagen für Waferbonding- und Lithographieanwendungen in der Halbleiterindustrie, Mikrosystemtechnik und Nanotechnologie, stellt heute das automatisierte EVG®7300 SmartNIL® Nanopräge- und Wafer-Level-Optics-System vor. Der EVG7300 ist die fortschrittlichste Lösung des Unternehmens, die mehrere UV-basierte Prozesse, wie Nanoimprint-Lithographie (NIL), Linsenprägen und Linsenstapelung (UV-Bonden) in einer einzigen Plattform vereint. Dieses für die Industrie entwickelte, multifunktionale System ist konzipiert, um den Anforderungen in anspruchsvollen F&E- und Produktionsumgebungen für eine breite Palette neuer Anwendungen gerecht zu werden, welche Mikro- und Nanostrukturierung sowie das Stapeln funktionaler Schichten benötigen. Dazu gehören Wafer-Level-Optik (WLO), optische Sensoren und Projektoren, Automobilbeleuchtung, Waveguides für Augmented Reality-Headsets, biomedizinische Geräte, Meta-Linsen und Meta-Oberflächen sowie Optoelektronik. Der EVG7300 unterstützt Wafergrößen von bis zu 300 mm und verfügt über eine hochpräzise Justiergenauigkeit und fortschrittliche Prozesskontrollmöglichkeiten bei gleichzeitig hohem Durchsatz.