Laserlithografiesystem EVG®770 NT

Schritt-und-Wiederholungs-Nanoimprint-Lithographie-System Step-and-Repeat-Nanoimprint-Lithographie für eine effiziente Master-Fertigung Das EVG770 NT ist eine vielseitige Plattform für Step-and-Repeat (S&R)-Nanoimprint-Lithografie zur effizienten Master-Fertigung oder zur direkten Strukturierung komplexer Strukturen auf Substraten. Dieser Ansatz ermöglicht die gleichmäßige Replikation von Templates aus kleinen Matrizen bis zu 30 cm². Das S&R-Verfahren ermöglicht die mehrfache Replikation dieser Matrizen über große Flächen bis hin zu Substraten in Gen2-Panel-Größe. In Kombination mit Diamantdreh- oder Direktschreibverfahren wird das S&R-Prägen häufig zur effizienten Herstellung von Templates eingesetzt, die für die Optikfertigung auf Waferebene oder den SmartNIL-Prozess von EVG benötigt werden. So ist es oft eine entscheidende Voraussetzung für die Großserienfertigung von Augmented-Reality-Wellenleitern, optischen Sensoren, diffraktiven Optiken, Metasurfaces oder biomedizinischen Geräten. Zu den Hauptmerkmalen des EVG770 NT gehören präzise Ausrichtmöglichkeiten, volle Prozesskontrolle und die Flexibilität, die Prozessanforderungen einer Vielzahl von Strukturen und Materialien zu erfüllen. Hochwertige Master-Fertigung von Mikrolinsen für Optiken auf Waferebene bis hin zu Nanostrukturen für SmartNIL® Effiziente Skalierung auf große Substratgrößen bis hin zur Panel-Größe Einfache Implementierung von verschiedenen Mastertypen Variable Dispensiermodi für Resist Live-Bild beim Dispensen, Prägen und Entformen In-situ-Kraftkontrolle beim Prägen und Entformen Optische Abstandskontrolle und Live-Gap-Messung Optionale In-Line-Messtechnik Optionaler Stempelpuffer und automatischer Austausch Optionales automatisches Kassette-zu-Kassette-Handling 80 mm, 4", 6", 8", 12", Gen2 (370 mm x 470 mm) < +/- 1 µm < +/- 250 nm