UV-NIL-Photolithografiesystem UV/EVG®620 NT

Das EVG620 NT ist bekannt für seine Flexibilität und Zuverlässigkeit und bietet modernste Maskenausrichtungstechnologie auf minimalem Raum. Bedienerfreundliche Software, minimierte Zeit für Masken- und Werkzeugwechsel sowie ein effizienter weltweiter Service machen sie zur idealen Lösung für jede F&E-Umgebung bis hin zur teilautomatisierten Serienproduktion. Das Tool unterstützt eine Vielzahl von Standardlithographieverfahren, wie z.B. Vakuum-, Soft-, Hart- und Näherungsbelichtungsmodus sowie die Möglichkeit der rückseitigen Ausrichtung. Darüber hinaus bietet das System zusätzliche Funktionen für vielseitige Konfigurationen, einschließlich Bondausrichtung und Nanoimprint-Lithographie. Darüber hinaus wird die von der EVG entwickelte SmartNIL-Technologie sowohl bei teilautomatisierten als auch bei vollautomatischen Systemkonfigurationen unterstützt. SmartNIL ist die branchenführende NIL-Technologie, die die Strukturierung extrem kleiner Merkmale bis unter 40 nm* sowie eine breite Palette von Strukturgrößen und -formen ermöglicht. SmartNIL in Kombination mit der Mehrzweck-Softstamp-Technologie ermöglicht einen unübertroffenen Durchsatz bei erheblichen Cost-of-Ownership-Vorteilen bei gleichbleibender Skalierbarkeit und wartungsfreundlichem Betrieb. Der SmartNIL von EVG löst das langfristige Versprechen des Nanoimprinting als kostengünstige und hochvolumige alternative Lithographietechnologie für die Massenfertigung von mikro- und nanoskaligen Strukturen ein. *lösung abhängig von Prozess und Template