Gasfilter Wafergard® II SF

PartikelMembranhochwirksam

Wafergard® II SF Mini-XL Inline-Gas-Filter Überlegene Partikelfiltration für ultrapure Gassystemsfiltration Patentierte Edelstahlmembrane liefern high-efficiency Filtration Ideal für Hochtemperatur- und Dynamischdruckanwendungen Ausgezeichnete Kompatibilität mit den meisten ultrapure Halbleiter-Prozessgasen Für Gebrauch mit den trägen und reagierenden Gasen Typischer Gebrauch bis zu 60 SLPM Materialien: Filterelement: Patentierter Edelstahlmembranenfilter Gehäuse: Electropolished 316L Edelstahl Oberflächenendeinnenraum: μin <=5 Ra Heliumleckbewertung: Qualifiziertes 2 `10-10 ATMcm/sek. Geprüft 1 `10-9 ATMcm/sek. Stromabwärts gerichtete Sauberkeit: Partikel: Weniger als 0.03 Partikel/Liter (<1 particle/ft3) größer als 0.01 μm Flüchtige Stoffe: μm =0.003 Betriebsbedingungen: Maximaler Eingangsdruck: Stab 165 (2357 P/in) an 20°C Maximaler Vorwärts-/der Rückseite Differenzdruck: Stab 140 (Psid 2000) Normalbetriebshöchsttemperatur: 460°C bei Stab 35 (500 P/in)