Partikelfilter Wafergard® III NF

MembranInlineHochtemperatur

Wafergard® III N-Düngung Mikroinline-Gas-Filter Überlegene Partikelfiltration für ultrapure Gassystemsfiltration Am saubersten, die meisten leistungsfähigen Ganzmetallfilter vorhanden Patentierte Nickelfiltermembrane bietet überlegene Korrosionsbeständigkeit und ausgezeichnete Kompatibilität mit den trägen und reagierenden Gasen an. (Empfohlen nicht für Gebrauch mit Co, O3 und niedrigen Hydriddopantgasen.) Ideal für Hochtemperatur- und Dynamischdruckanwendungen Materialien: Filterelement: Patentierter, gesinterter Nickelmembranenfilter. Gehäuse: Electropolished F20 Edelstahlgehäuse Oberflächenendeinnenraum: μin <=5 Ra Heliumleckbewertung: Qualifiziertes 2 `10-10 ATMcm/sek. Geprüft 1 `10-9 ATMcm/sek. Stromabwärts gerichtete Sauberkeit: Particles1: Weniger als 0.03 Partikel/Liter (μm =0.003 Partikelzurückhalten: Größer als 99.9999999% Abbau (9 LRV) aller Partikel (bezogene höchstens durchdringende Teilchengröße) Betriebsbedingungen: Maximaler Eingangsdruck: Stab 207 (3000 P/in) @100°C Maximaler Vorwärts-/der Rückseite Differenzdruck: Stab 35 (500 Psid) Normalbetriebshöchsttemperatur: Edelgase 400°C bei den ätzenden und reagierenden Gasen 50°C des Stabes 35 (500 P/in) bei Stab 70 (1000 P/in)