Der Drehtisch EZ-0779 mit hoher axialer Tragkraft und axialer/radialer Error Motion unter 100 nm wurde urprünglich für den Einsatz in der Waferbearbeitung entwickelt; er ist für vielfältige Anwendungen geeignet. Der direkt angetriebene Drehtisch ist mit einem leistungsstarken wassergekühlten Torquemotor ausgestattet. Optional kann eine Drehdurchführung mit bis zu 6 Luft-/Vakuumkanälen integriert werden. Das Messystem (Numerik Jena RIK4) mit 18 000 Strichen kann wahlweise mit einer Interpolation von 5, 10, 50 oder 100 geliefert werden. Niedrige Interpolationswerte erlauben höhere Drehzahlen, höhere Interpolationswerte erhöhen die Wiederholgenauigkeit. Der Drehtisch kann in jeder Orientierung waagrecht und senkrecht eingebaut werden.
Einsatzgebiete: Waferschleifen, Waferdünnen, Testsysteme, Anwendungen mit hohen Anforderungen an Gleichlauf und/oder Positioniergenauigkeit