Kammerofen JETFIRST

ThermoVakuumkompakt

Das ECM JetFirst RTP System ist ein kompakter und robuster Lampenofen, der sich für das schnelle thermische Ausglühen (Rapid Thermal Annealig, RTA) einer breiten Palette von Materialsubstraten und Strukturen (Electronic Grade Si, Stahlglas, SoG c-Si, III-V, II-VI, Germanium, Quarz, Keramik usw.) mit einer Größe von 100 mm bis 300 mm Durchmesser eignet. Dieser Lampenofen ist mit einer metallischen, wassergekühlten Reaktorkammer ausgestattet und hat daher einen ultraniedrigen Memory-Effekt. PLUS UND VORTEILE Das JetFirst-System ist ein Lampenofen, der entwickelt wurde, um die Anforderungen von Universitäten und Forschungslabors zu erfüllen. Das System zur Temperaturmessung sorgt für eine genaue und wiederholbare thermische Kontrolle über den gesamten Temperaturbereich. Die Lampenanordnung, der obere Bereich und das Quarzfenster sind in einem drehbaren Deckel untergebracht, der einen vollständigen Zugang zur Kammer ermöglicht, so dass die Wafer leicht be- und entladen werden können. Mit Siliziumkarbid beschichtete Graphit-Suszeptoren sind für die Verarbeitung verschiedener kleiner Proben und zusammengesetzter Halbzeuge erhältlich. Auf Anfrage kann eine Ersatzprozesskammer geliefert werden, um eine Kreuzkontamination zu vermeiden, wenn mehrere Prozesse im selben Reaktor durchgeführt werden müssen. Die hohe Zuverlässigkeit und die hohen Leistungsmerkmale des JetFirst ermöglichen eine Produktion im kleinen Maßstab. Der Prozess kann bei Atmosphärendruck oder unter Vakuum durchgeführt werden. Ein PID-System sorgt für eine genaue und wiederholbare thermische Steuerung über den gesamten Temperaturbereich. Die Steuerung des RTP-Prozesses erfolgt über einen Computer, auf dem der spezielle PIMS-Supervisor läuft, der die Rezepturprogrammierung und die Überwachung des gesamten RTP-Systems ermöglicht.