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Hochgeschwindigkeits-Läppmaschine KJ200L
zur Verdünnung von Wafernfür harte Materialien

Hochgeschwindigkeits-Läppmaschine
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Eigenschaften

Merkmal
Hochgeschwindigkeit
Verwendung
für harte Materialien, zur Verdünnung von Wafern
Außendurchmesser

200 mm
(8 in)

Beschreibung

Es wird zum Hochgeschwindigkeitsdünnen von spröden und harten Materialien wie Silizium-Wafer, Keramik, Glas, Quarzkristallen, Saphir und anderen Halbleitermaterialien verwendet.

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Ausdünnungsmaschine

* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.