Entlackmaschine für Leiterplatten CCR-CWC-LV1

Entlackmaschine für Leiterplatten - CCR-CWC-LV1 - Crystal Mark
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Eigenschaften

Merkmal
für Leiterplatten

Beschreibung

Modell CCR-CWC-LV1 Schwamm-Blaster® Modell CCR-CWC-LV1 CRYSTAL MARK, Inc. stellt ein Mikro sandstrahlen System her, das sicher und selektiv die meisten Arten konformes withouth Verursachen mecanical oder ESD-Schaden entfernt. Der Mikrosandstrahler SWAM-BLAST Modell-LV-1 war speziell entworfen, um konforme Beschichtung von den Genauigkeitsbereichen zu einer gesamten Oberfläche selektiv zu entfernen. Das LV-1 kennzeichnet unabhängig justierbare PulverSteuerung des Datenflusses und Luftdruckregulationen, einfacher Zugang zur abschleifenden Bahn zur Wartung sowie großes Karbid zeichneten Komponenten während der abschleifenden Bahn für ausgedehntes Abnutzungsleben und optimales Pulver valume. Wenn konforme überzogene Komponenten für elektrostatische Entladung (ESD) empfindlich sind, verringert der Punkt Ionizer effektiv den ESD vom Erreichen von Niveaus, die Schaden der Komponente während des Abbauprozesses möglicherweise verursachen konnten. Es gibt einige Arten Polierpulver, die für konformen beschichtenden Abbau einschließlich umweltfreundliche Kohlenstoff-Explosion und Soda-Bikarbonat verfügbar sind. Kohlenstoff-Explosion ist das weichste und entfernt erfolgreich die meisten Arten konforme Beschichtungen einschließlich Parylenes, Silikone, Uräthane, Epoxy-Kleber, Acryle und ihre Mischungen. Groß für PCBs, da es nicht mechanischen Schaden des Grenzmantels des Brettes verursacht. Soda-Bikarbonat ist aggressiver, als Kohlenstoff-Explosion ein anderes Polierpulver ist. Es ist härter als Soda-Bikarbonat und kann viele konformen Beschichtungen entfernen.

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Conformal Coating Removal Equipment (ESD)

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* Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.