- Hochreines Substrat aus synthetischem Saphir
- Ausgezeichnete Ebenheit und Parallelität der Oberfläche
- Hochwertige hochreflektierende Beschichtung
- Spektrale Eigenschaften nahe den theoretischen Werten
- Geringe Absorption, geringe Streuung
- Hohe Laserschadensschwelle
Der Hochreflektor aus Saphir hat hervorragende mechanische und optische Eigenschaften. Er ist robust und widerstandsfähig gegen starke Hitze- und Kälteschocks. Die Oberfläche ist mit einer volldielektrischen, hochreflektierenden Schicht beschichtet, die einen Reflexionsgrad von mehr als 99,9 % erreicht. Er wird normalerweise als Reflektor in Hochleistungslasern oder -systemen verwendet.
Merkmale von hochreflektierenden Laserspiegeln aus Saphir
Ein hochwertiger Laserspiegel aus Saphir mit hohem Reflexionsvermögen muss einen Saphir-Einkristall (Al2O3) in Laserqualität als Substrat verwenden. Im Inneren des Kristalls gibt es keine Verunreinigungen, keine Einschlüsse, keine Blasen und keine Doppelbrechung. Anschließend wird er präzisionsgeschnitten, geschliffen und einer tiefen CMP-Behandlung unterzogen, um ein optisches Saphirsubstrat mit einem präzisen Profil, hervorragender Oberflächenqualität und Ebenheit zu erhalten. Die Nichtarbeitsfläche des hochreflektierenden Saphir-Laserspiegels kann poliert oder fein geschliffen werden.
Merkmale der Beschichtung von hochreflektierenden Saphir-Laserspiegeln
Herkömmliche hochreflektierende Beschichtungen sind mehrlagige Filme, die aus Materialien mit hohem und niedrigem Brechungsindex und einer optischen Dicke von 1/4 einer bestimmten Wellenlänge bestehen. Durch Erhöhung der Anzahl der Schichten kann der Reflexionsgrad 99,9 % oder noch mehr betragen. Alle optischen Schichten werden in ultrareinen Umgebungen und unter Ultrahochvakuumbedingungen beschichtet. Beschichtungen mit hohem Reflexionsgrad zeichnen sich durch geringe Absorption, geringe Streuung und eine hohe Laserschadensschwelle aus.
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