Ebenheitsmessgerät Tropel® UltraFlat 200

optisch

Das Tropel® UltraFlatTM 200 Maskensystem wurde speziell für die Fotomaskenindustrie entwickelt. Es liefert die niedrigste Messunsicherheit für immer enger werdende Planheitsanforderungen an die Maske. Schrumpfende Geräteeigenschaften erfordern nicht nur flachere Wafer, sondern auch flachere Masken. Das UltraFlatTM-System wird verwendet, um die Planheit von Fotoblank und Fotomaske in jeder Phase der Herstellung und Verwendung zu messen, einschließlich Substratpolitur, Beschichtung und Musterung zur Analyse der Filmspannung und Verifizierung. Das UltraFlatTM-System verwendet Interferometrie mit nahezu normalem Einfall, ein stabiles Strukturdesign, modernste optische Fertigungstechniken und Tropels bewährte Phasenverschiebungsanalyse-Software, um eine Messunsicherheit von 20 Nanometern zu erreichen. Das System ist vom National Institute of Standards and Technology (NIST) rückverfolgbar und bietet Messungen, die den SEMI-Standards entsprechen. Eine automatisierte Handhabung und Messkonfiguration der Photomaske ist ebenfalls verfügbar.