Telezentrisches Mikroskop-Objektiv FT series

zum Schweißenfür Druckmaschine

Optimieren Sie die Leistung in der additiven Fertigung, beim Schweißen von E-Batterien und bei Laserreinigungsanwendungen mit Scanlinsen, die auf Material mit geringer Absorption und Beschichtungstechnik mit geringer Absorption basieren. Fused Silica/CaF2/Saphir für Hochleistungslaser >6 KW und Brennweitenbereiche: 32 bis 920 mm und Scanfelder: von 6x6 mm bis 710x710 mm. - Telezentrisches und nicht-telezentrisches Objektiv - Interne optische Elemente ohne Rückreflexionspunkt - Fused Silica/CaF2/Saphir für Hochleistungslaser: >6 KW - Hohe Gleichmäßigkeit des Brennflecks. >95% - Geringer Telezentrizitätsfehler (bei telezentrischer Linse): <1° - Brennweitenbereich: 32 bis 920 mm - Scanfeld: von 6x6 mm bis 710x710 mm - Geringe Beschichtungsabsorption und geringe thermische Verschiebung - 266 nm, 355 nm, 532 nm, 1064 m und andere - Wasser- oder luftgekühltes Design - Vollständige interne Verarbeitungskette - Schneller Service für neue Produkte - Kapazität und Flexibilität bei der Skalierung ANWENDUNGEN: - 3D-Druck - Neue Energiebatterie - Laserschweißen, Laserreinigen, Laserschneiden