Feldemissions-Rasterelektronen-Mikroskop HEM6000

Laborfür die Materialanalysefür Halbleiter

Hochgeschwindigkeits-Rasterelektronenmikroskop für die maßstabsübergreifende Abbildung großvolumiger Proben Das CIQTEK HEM6000 verfügt über Technologien wie die lichtstarke Großstrahl-Elektronenkanone, das Hochgeschwindigkeits-Elektronenstrahl-Ablenksystem, die Hochspannungs-Verzögerung des Probentischs, die dynamische optische Achse und die elektromagnetische und elektrostatische Immersions-Kombinations-Objektivlinse, um eine Hochgeschwindigkeits-Bildaufnahme zu erreichen und gleichzeitig eine Auflösung im Nanobereich zu gewährleisten. Der automatisierte Betriebsprozess ist für Anwendungen wie einen effizienteren und intelligenteren großflächigen, hochauflösenden Imaging-Workflow konzipiert. Die Bildaufnahmegeschwindigkeit ist mehr als fünfmal so hoch wie bei einem herkömmlichen Feldemissions-Rasterelektronenmikroskop (fesem). 1. Bildaufnahmegeschwindigkeit：10 ns/Pixel，2*100 M Pixel/s 2. Auflösung：1,3 nm@3 kV, SE; 1,5 nm@1 kV, SE，0,9 nm@ 30 kV, STEM 3. Beschleunigungsspannung：0,1 kV~6 kV (Verzögerungsmodus)，6 kV~30 kV (Nicht-Verzögerungsmodus) 4. Sichtfeld：Maximal 1*1 mm2, hochauflösend, minimale Verzerrung 64*64 um2 5. Wiederholbarkeit des Tisches：X ±0,6 um，Y ±0,3 um 6. Signal-Elektronen-Filtersystem：SE/BSE signalfreies Schalten, Mischen mit einstellbarem Verhältnis 7. Vollständig elektrostatisches Hochgeschwindigkeits-Strahlablenkungssystem：Hochauflösende Großfeldabbildung möglich Maximum. Sichtfeld bis zu 32um*32 um bei 4 nm pro Pixel 8. Sample Stage Deceleration Technology：Reduzierung der auftreffenden Elektronenlandespannung, Erhöhung der Effizienz beim Einfangen von Signalelektronen 9.Elektromagnetisches und elektrostatisches Kombi-Tauchobjektiv-Strahlablenkungssystem：Das Magnetfeld des Objektivs taucht die Probe ein und trägt zu einer hochauflösenden Bildgebung mit geringer Aberration bei