Lasersystem für Doping SolarLase-G3SE

Leistung

Wafergröße: 156-166mm Funktion: SE-Laser-Dotierung Plattform: Drehtisch und Galvoscanner Hochpräzise Kamera für die Ausrichtung SolarLase-G3SE ist ein SE-Laserdotiersystem für die Produktion von hocheffizienten c-Si-Solarzellen mit 7000+WPH. Die thermisch stabile optische Granitplatte kann zwei 532nm-Laser aufnehmen, jeder mit seinem eigenen unabhängigen Strahlengang. Die Strahlführungswege sind flexibel und können in Bezug auf den Strahldurchmesser, die Laserleistung und die Shuttersteuerung individuell angepasst werden. Die Optikplatte aus Granit ist für eine stabile optische und mechanische Leistung unerlässlich. Der SolarLase-G3SE ist ein sicheres Lasersystem der Klasse I und verfügt über ein System zur Entfernung von Ablagerungen, um das Werkstück sauber zu halten. SolarLase-G3SE bietet hervorragende Möglichkeiten zur Waferausrichtung, da die nächste Generation hocheffizienter c-Si-Zellen eine noch präzisere Ausrichtung als bisher erfordert. Kameras mit hoher Vergrößerung können Waferkanten oder Markierungen auf dem Wafer genau erkennen, was eine präzise Überlagerung von lasergeschriebenen Mustern zwischen zwei aufeinanderfolgenden Bearbeitungsschritten ermöglicht. Die Anwendungssoftware des SolarLase-G3SE bietet eine einfach zu bedienende, freundliche Benutzeroberfläche, die das Erstellen, Bearbeiten, Speichern und Laden von Rezepten ermöglicht und die Waferbearbeitung hocheffizient macht. Für jede SolarLase-G3SE-Anlage werden die kundenspezifischen Anforderungen und Pläne ausgewertet, so dass wir die Anlage besser an die individuellen Kundenbedürfnisse anpassen können.