In der Halbleiterverarbeitung ist ein vollständig reines Ozonsystem unabdingbar. Jegliche Metalle und Teilchen, die während des Prozesses (Wafer/IMEC/RCA/SOM, etc.) aus dem Ozonsystems auf die Halbleiteroberflächen emittiert würden, würden die Qualität des Mikrochips beeinträchtigen. Einschließlich ihrer Komponenten – wie beispielsweise des Ozongenerators COM-AD oder des Ozonmonitors WM -, sind die Anseros Wassersysteme PAP-SC vollständig frei von Metallen in Kontakt mit Ozon. Sie sind geeignet für saubere Nass- und Trockenverarbeitung, gleichgültig, ob mit oder ohne Säuren. Zur Gewährleistung der Sicherheit umfasst das PAP-SC System einen Ozonzerstörer CAT-HO.
ANWENDUNGEN
+ IMEC- und RCA-Reinigungsverfahren
+ UPW-Systeme
+ Advanced Oxidation Processes AOP
+ Drei-Phasen-Systeme
+ Biologischer Abbau DOC
+ Sterilisation
+ CIP-Reinigung
TECHNISCHE DATEN
DI-water flow: 100 … 2000 l/h
DO3: 1 … 100 ppmw
Material in contact with ozone: PFA, quartz