Kompaktes Prozesssteuergerät Plasus

Prozessflussregler sind Hochgeschwindigkeits-Prozessgasregler mit geschlossenem Regelkreis, die für die Echtzeit-Präzisionsregelung reaktiver Vakuumbeschichtungs- und Plasmabehandlungsprozesse auf Sputterbasis entwickelt wurden. Sie sind komplette, kompakte, flexible, benutzerfreundliche und wirtschaftliche Lösungen, die sich leicht in neue und bestehende Systeme integrieren lassen. Ob in der Produktion oder in der Forschung und Entwicklung, Prozessflusssteuerungen können nachweislich die Prozessstabilität, die Wiederholbarkeit und den Ertrag verbessern. Es ist eine große Auswahl an Zubehör erhältlich, darunter auch Sensoren, die speziell für HIPMS-Sputteranwendungen entwickelt wurden. Die Prozesskontrolle ist bei industriellen Plasmaanwendungen unerlässlich, um die Zuverlässigkeit und hohe Qualität des Prozesses zu gewährleisten. Hier ist die optische Emissionsspektroskopie (OES) eine Technik erster Wahl, da sie das Plasma nicht beeinträchtigt und die Echtzeitüberwachung mehrerer Plasmaspezies möglich ist. Unsere PLASUS EMICON Systeme verfügen über alle Funktionen, die Sie zur Analyse, Optimierung und Kontrolle Ihrer Plasmaanwendung benötigen. PLASUS ist ein führender Hersteller von spektroskopischen Plasmamonitor-Systemen. Vor 20 Jahren gegründet, liegt unsere Kernkompetenz in der Entwicklung schlüsselfertiger Prozessüberwachungssysteme für Industrie- und F&E-Anwendungen. Unsere Systeme werden zur Plasmaüberwachung, Prozesssteuerung, Prozessoptimierung, Qualitätskontrolle und spektroskopischen Plasmaanalyse eingesetzt. Profitieren Sie von unserer langjährigen Erfahrung und unserem führenden Branchen-Know-how - wir stehen Ihnen zur Verfügung und beraten Sie umfassend für Ihre Anwendung!