Puls-Magnetron HiPIMS

High Power Impulse Magnetron Sputtering oder HiPIMS ist ein relativ neuer Fortschritt in der Technologie des gepulsten Sputterns, bei dem Impulse von sehr hoher Energie und kurzer Dauer zur Erzeugung einer Plasmaentladung eingesetzt werden, die einen großen Anteil der gesputterten Atome ionisiert. Der ionisierte Fluss kann dann zur besseren Kontrolle der Beschichtungseigenschaften gelenkt werden. Angstrom Sciences hat eine Reihe von Sputterkathoden entwickelt, die in der Lage sind, diese extremen Leistungsdichten von mehr als 1500 Watt/in2 für kontinuierliche, lang laufende Produktionsanwendungen aufrechtzuerhalten. Neben unserer patentierten turbulenten Targetkühlung verfügen die gepulsten Hochimpuls-Magnetron-Sputterkathoden von Angstrom Sciences über zusätzliche Kühlkanäle im Anodenkörper und in den Montageflanschen, um eine optimale Kühlung während des Prozesses zu gewährleisten. Zu den weiteren Merkmalen gehören passive und aktive Magnetanordnungen, die die Feldintensität an der Targetoberfläche während der gesamten Lebensdauer des Targets konstant halten, was beim HIPIMS-Verfahren sowohl für die Reduzierung der Lichtbogenbildung als auch für die optimale Ionisierung des gesputterten Materials entscheidend ist. Diese Merkmale zusammen mit der soliden Anodenkonstruktion ermöglichen eine konstante, wiederholbare Leistung bei anspruchsvollen Anwendungen wie HiPIMS oder anderen Hochleistungsanwendungen mit langer Laufzeit. HiPIMS-Magnetrons sind direkt gekühlt und in kreisförmigen, linearen und zylindrischen Ausführungen erhältlich.