Unsere Mesa-Laserserie eignet sich ideal für ein breites Spektrum wissenschaftlicher und industrieller Anwendungen, einschließlich der Mikrobearbeitung, bei der geringe Schnittfugenbreite und ausgezeichnete Kantenqualität die wichtigsten Prozessanforderungen sind. Diese Serie von Lasern ist mit astigmatismusfreien kreisförmigen Strahlen und überlegener Stabilität optimiert, um höchste Prozessqualität zu gewährleisten.
Unsere Pumptechnologie und das stabile optische Resonatordesign erzeugen einen Laserstrahl mit gleichmäßiger Energieverteilung und hoher Ausgangsleistung. Der Oberwellenausstoß bei 532 nm ist ideal für die Verarbeitung von Materialien wie Halbleiterwafern, Solarzellen, Kupfer, Polyamid, Leiterplatten und Kunststoffen.
Bewerbungen
Industrie:
> Stent/Glas/PCB/Feinschneiden von Metall
> LCD/Solarkanten-Löschung
> Markierung
> Wafer-Trimming
> Mikro-Lochbohren
> Ritzen von Keramik
> Feines Abisolieren
> Diamant/Gemeinsteinbearbeitung
Wissenschaft:
> Ti:Saphir-Pumpen
> Partikelbild-Velocimetrie (PIV)
> Verbrennungsanalyse
> Laserinduzierte Fluoreszenz
> LIDAR
> Resonanz-Raman-Spektroskopie
> Chemische Analyse von Makromolekülen
> Laser-Mikrosonden-Analyse
Wichtige Merkmale
> 1064 und 532 nm Betrieb
> Glattes und symmetrisches Strahlprofil
> Hoch effiziente Wellenlängenkonversion
> Konsistente Ausgabe über einen großen Leistungsbereich
> Kompaktes und robustes Paket für den 24/7-Betrieb
> Aufzeichnung von 3 Min. Diodenmodulaustausch ohne Neuausrichtung erforderlich
> Proprietäres optisches Hohlraumdesign für optimale Strahlqualität
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