Reinigungsanlagen für Wafer

... Nassbearbeitung von Wafern / Substraten / Masken Reinigen, Entwickeln, Striping, Ätzen, verschiedene chemische Prozesse inkl. Piranha, HF, SC1 und SC2, Megasonic und Highpressure Stand-alone und Nassbankversion Max. Wafergröße: Ø ...

... Reinigung der diffundierten Siliziumscheiben verwendet. Prozessablauf Wrap Around Removal→Post-clean→Acid Clean→Post-clean→Acid Clean→Hot Water Drying→Drying (als Referenz) - Durchsatz: 400 Stück/Charge, 9600 Stück/Stunde ...

... nach dem Polieren entfernt Partikel, Verunreinigungen und schafft perfekt gereinigte Waferoberflächen. Die Anlage behandelt Wafer bis zu einem Durchmesser von 300 mm. Ob Full- oder Half-Pitch-Aufbau, carrier-lose oder ...

... wafer-Zwei-Flüssigkeits-Zentrifugal-Reinigungsmaschine, auch Wafer-Reinigungsanlage genannt, Wismut-Tellurid-Wafer-Reinigungsmaschine, automatische Zweiflüssigkeits-Zentrifugalreinigungsmaschine, ...

... Logitech's SWC3000 bietet ein Single Wafer Cleaning bench top System für eine beschädigungsfreie, optimierte Reinigung von Wafern und Masken, die in der MEMS- und Halbleiterindustrie verwendet werden. Das SWC3000-System ...

... Diese Maschine ist eine vollautomatische Wafer-Reinigungsmaschine, die automatisch durch einen Manipulator in einer geschlossenen Umgebung betrieben wird. Sie verfügt über Reinigungs- und Trocknungsfunktionen, eignet ...