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Positioniertische für Wafer-Handling
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Geschwindigkeit: 100, 15 mm/s
Ladung: 750 kg
... HEX-S6.50.200 6-Achsen Hexapod Dreifuß-Struktur Parallel sechs Freiheitsgrade Bühnen Kurze Beschreibung: Eigenschaften: Hohe Präzision, kann zusammengebaut werden, kann angepasst werden, Lichtöffnung 460mm Bietet konsistente und zuverlässige ...
Hub: 1 mm - 40 mm
Geschwindigkeit: 1 mm/s - 200 mm/s
Wiederholbarkeit: 0,3 µm - 5 µm
LA92 Hochgeschwindigkeits-UHV-Linearachse Anwendung: Hochauflösende und schnelle Scananwendungen Nutzen: Schnelle Positionierung im UHV, auch vertikal Merkmale: Hervorragende Auflösung, sehr schlank, mit internem Motor - Vakuum: ...
Steinmeyer Holding GmbH
Hub: 1 mm - 100 mm
Geschwindigkeit: 1 mm/s - 10 mm/s
Wiederholbarkeit: 0,4 µm - 5 µm
LT300 Präziser Lineartisch für hohe Belastungen Anwendung: Transporttisch, Scanningtisch für hohe Lasten Vorteil: Hohe Lebensdauer trotz Trockenschmierung Features: Spindel mit Trockenschmierung oder Kugelumlaufspindel mit flüssigen ...
Steinmeyer Holding GmbH
Hub: 1 mm - 300 mm
Geschwindigkeit: 1 mm/s - 10 mm/s
Wiederholbarkeit: 0,015 µm - 5 µm
LA97 Nanometer-Lineartisch Anwendung: Scannen Nutzen: Nanometer-Positionierung, auch vertikal Features: Positionierung mit extremer Auflösung und höchster Steifigkeit kann mit 2 (oder 4) Motoren ausgestattet werden - Vakuum: ...
Steinmeyer Holding GmbH
Hub: 1 mm - 185 mm
Geschwindigkeit: 1 mm/s - 8,4 mm/s
Wiederholbarkeit: 0,4 µm - 5 µm
LA95 Anwendung: Transportstufe, Abtaststufe Vorteil: hohe Lebensdauer trotz Trockenschmierung Merkmale: Spindel mit Trockenschmierung oder Kugelgewindetrieb mit Flüssigschmierung - Vakuum: alle Druckbereiche ...
Steinmeyer Holding GmbH
Hub: 1 mm - 10 mm
Geschwindigkeit: 0,2 mm/s - 10 mm/s
Wiederholbarkeit: 0,2 µm - 5 µm
MT53 Hochauflösender Mikrotisch Anwendung: Mehrzweck-Mikrotisch Vorteil: für hochauflösendes Scannen Merkmale: Positionierung mit sehr hoher Auflösung - Vakuum: alle Druckbereiche HV /UHV bis zu 10E-11 mbar - Schmierung: Flüssigkeit ...
Steinmeyer Holding GmbH
Hub: 1 mm - 50 mm
Geschwindigkeit: 1 mm/s - 50 mm/s
Wiederholbarkeit: 0,3 µm - 5 µm
KT105-50 Hochauflösender XY-Tisch Anwendung: Vakuum-XY-Tisch Vorteil: schnell und hochauflösend Merkmale: Parameter für Gieren und Nicken dreimal besser als die Variante mit Blende - Vakuum: alle Bereiche HV / UHV bis zu ...
Steinmeyer Holding GmbH
Hub: 1 mm - 100 mm
Geschwindigkeit: 1 mm/s - 10 mm/s
Wiederholbarkeit: 0,4 µm - 5 µm
KDT300 Stabiler Hochlast-xy-Tisch Anwendung: Transporttisch, Scanningtisch für hohe Lasten Vorteil: hohe Lebensdauer trotz Trockenschmierung Merkmale: hohe Lebensdauer trotz Trockenschmierung - Vakuum: alle Bereiche HV / UHV ...
Steinmeyer Holding GmbH
Hub: 1 mm - 16 mm
Geschwindigkeit: 1 mm/s - 2,2 mm/s
Wiederholbarkeit: 1 µm - 5 µm
HT160 Präziser vertikaler Hubtisch für hohe Lasten Anwendung: Vakuumhebetisch Vorteil: hohe Steifigkeit und Belastung Merkmale: Keil mit Kugelumlaufspindel • - Vakuum: alle Bereiche HV / UHV / EUV bis zu 10E-11 mbar • - Schmierung ...
Steinmeyer Holding GmbH
Hub: 1 mm - 16 mm
Geschwindigkeit: 1 mm/s - 16,6 mm/s
Wiederholbarkeit: 0,7 µm - 5 µm
HDT255 Hebetisch mit hoher Lastöffnung Anwendung: Vakuumhebetisch Vorteil: hohe Steifigkeit und Tragfähigkeit, Apertur Merkmale: Keiltisch mit Apertur - Vakuum: alle Bereiche HV / UHV / EUV bis zu 10E-11 mbar - Schmierung: ...
Steinmeyer Holding GmbH
Hub: 1 mm - 25 mm
Geschwindigkeit: 1 mm/s - 3,4 mm/s
Wiederholbarkeit: 0,3 µm - 5 µm
HT240 Präziser vertikaler Hubtisch für hohe Lasten Anwendung: Vakuum-Hebetisch Vorteil: hohe Steifigkeit und Belastung Merkmale: Keil mit Kugelumlaufspindel • - Vakuum: alle Bereiche HV / UHV / EUV bis zu 10E-11 mbar • - Schmierung: ...
Steinmeyer Holding GmbH
Hub: 30, 50, 100 mm
Geschwindigkeit: 5, 50 mm/s
Vakuum: alle Bereiche HV / UHV / EUV bis 10E-11 mbar Schmierung flüssig bis 10E-8 / trocken bis 10E-11 mbar Max. Ausheiztemperatur: 120°C Optional konfigurierbar: • Verfügbar als magnetische, magnetarme und magnetfreie Ausführung • ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
Hub: 100, 50 mm
Geschwindigkeit: 5 mm/s
Wiederholbarkeit: 0,5 µm - 4 µm
... Nanometerbereich. Anwendungsbereiche Halbleitertechnik im Ultrahochvakuum und unter extrem ultravioletter Strahlung, Waferjustage, Wafer Inspektion, Kamerajustage, Sensorjustage, Inspektion von Kontakten, Ausrichten ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
Hub: 60, 130 mm
Geschwindigkeit: 5 mm/s
Wiederholbarkeit: 0,5 µm - 4 µm
• Vakuum: alle Bereiche HV / UHV / EUV bis 10E-11 mbar • Schmierung flüssig bis 10E-8 / trocken bis 10E-11 mbar • Max. Ausheiztemperatur: 120°C • Verfügbar als magnetische Ausführung Optional konfigurierbar: • Auf die Anwendung ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
Hub: 25 mm
Geschwindigkeit: 1,7 mm/s
• Vakuum: alle Bereiche HV / UHV / EUV bis 10E-11 mbar • Schmierung flüssig bis 10E-8 / trocken bis 10E-11 mbar • Max. Ausheiztemperatur: 120°C • Verfügbar als magnetische Ausführung • Reinraum Klasse 4 nach ISO 14644-1 (bis Klasse ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
Hub: 16 mm
Geschwindigkeit: 1,1 mm/s
• Vakuum: alle Bereiche HV / UHV / EUV bis 10E-11 mbar • Schmierung flüssig bis 10E-8 / trocken bis 10E-11 mbar • Max. Ausheiztemperatur: 120°C • Verfügbar als magnetische Ausführung • Reinraum Klasse 4 nach ISO 14644-1 Optional ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
Hub: 5 mm
... GIGAGER XXY Wafer Alignment Stage XXY350-105-450, auch XXY Alignment Stage oder UVW Stage genannt. Um den unterschiedlichen Design-Anforderungen der Anwender gerecht zu werden, bietet GIGAGER sowohl hohle als auch massive ...
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