Positioniersysteme für Wafer-Handling

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XYZ-Positioniersystem
XYZ-Positioniersystem
782327:060.26

Wiederholbarkeit: 1,5 µm - 3,5 µm
Ladung: 663 g
Hub: 40 mm

... Korrekturen in den drei lateralen Richtungen • Wiederholgenauigkeit bis 1.5 µm Das XYZ-Positioniersystem ist ein kartesisch angeordnetes Positioniersystem aus drei Miniatur-Lineartischen (3 x MT95). ...

3-Achs-Positioniersystem
3-Achs-Positioniersystem
782327:032.24

Wiederholbarkeit: 2,3 µm - 4,5 µm
Ladung: 4,5 kg
Hub: 50 µm - 50 µm

Hochdynamisches 3-Achs-Justiersystem: Kundenspezifisch anpassbar: • µm-Präzision durch die hohe Steifigkeit • Belastbarkeit bis 45 N • Hohe Dynamik bei Geschwindigkeiten bis 30 mm/s • gute Ablaufwerte • minimaler Reibungswiderstand ...

Positioniersystem / Kombinierte Module
Positioniersystem / Kombinierte Module
Z3TM+

Wiederholbarkeit: 5, 10 µm
Ladung: 4 kg - 25 kg
Geschwindigkeit: 0,1 m/s - 10 m/s

Das Z3TM+ erweitert das Portfolio von Modulen für die Bewegungsplattformen. Dieses Modul fügt vier unabhängige Freiheitsgrade hinzu, nämlich Tip, Tilt, Theta und Z-Achsen, eingebettet in eine vergrößerte Theta Hohwelle. Eine Konfiguration ...

Positioniersystem mit großer Öffnung
Positioniersystem mit großer Öffnung
XY-OF-S300x300-A300x300J

Wiederholbarkeit: 5 µm
Ladung: 30 kg
Hub: 300 mm

... XY-Tische mit offenem Rahmen und niedrigem Profil für ein breites Spektrum an automatisierten, präzisen Positionierungen in mikroskopbasierten Anwendungen. Der Antriebsmechanismus befindet sich an der Seite des Geräts und bietet eine ...

3-Achs-Positioniersystem
3-Achs-Positioniersystem
782462:002.26

Wiederholbarkeit: 1,5, 5,5 µm
Hub: 76 mm
Geschwindigkeit: 50 mm/s

... hochpräzise Positioniersystem ist speziell als ergänzender Polarisationsfilter für die Miniaturisierung und Automatisierung in der EUV-Lithografie entwickelt worden. Dieser maximiert die Belichtungsqualität als auch den ...

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Steinmeyer Mechatronik GmbH
XY-Positioniersystem
XY-Positioniersystem
786001:002.26

Wiederholbarkeit: 1,5, 2,5 µm
Hub: 50, 150 mm
Geschwindigkeit: 25 mm/s

... UV-Belichtungsmasken | Hochpräzises Positioniersystem für die Wafer-Belichtung in trockener Stickstoffatmosphäre Serienbaugruppen 786001:002.26 XY-Theta-Justage von UV-Belichtungsmasken | Hochpräzises ...

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Steinmeyer Mechatronik GmbH
XY-Positioniersystem
XY-Positioniersystem
782344:025.26

Wiederholbarkeit: 1,5, 2,5 µm

... zur hochpräzisen Justage von Linsen für Wafer Stepper | ultrafeine UV-Belichtung im Reinraum - Serienbaugruppen Hochpräzise Verstellung zweier Optiken Diese hochpräzise Doppel-Linearachse wurde speziell für Wafer-Stepper ...

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