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Plasmaquellen für Oberflächenbehandlung
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... Die Plasmaquellen sind in eine Vakuumkammer eingebaut und erzeugen ein hochdichtes Plasma. Die Plasmaquelle kann für die plasmagestützte Abscheidung (Ionenplattierung) verwendet werden und ermöglicht ...
... RF-Atomquelle für atomaren Sauerstoff und atomaren Stickstoff Minimierte Leistungsverluste durch optimiertes Design Die Entladezone ist aus hochwertigen Materialien gefertigt, die eine minimale Kontamination des Strahls gewährleisten Null-Ionen-Strom-Konfiguration ...
Die TruPlasma DC Serie 3000 (G2) ist für eine Vielzahl von DC-Sputterprozessen geeignet – auch als Ersatz von gepulsten Prozessstromversorgungen. Denn das fortschrittliche Arc-Management bietet die Gewähr für beste Schichtqualitäten und ...
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