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Photolithografiesystem
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... Das EVG620 NT ist bekannt für seine Flexibilität und Zuverlässigkeit und bietet modernste Maskenausrichtungstechnologie auf minimalem Raum. Bedienerfreundliche Software, minimierte Zeit für Masken- und Werkzeugwechsel sowie ein effizienter ...
EV Group
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... Das EVG770 ist eine vielseitige Plattform für die Step-and-Repeat-Nanoimprint-Lithographie zur effizienten Masterfertigung oder Direktstrukturierung komplexer Strukturen auf Substraten. Dieser Ansatz ermöglicht die einheitliche Replikation ...
EV Group
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... Das IQ Aligner UV-NIL System ermöglicht Mikroform- und Nanoimprintprozesse mit Stempeln und Wafern von 150 mm bis 300 mm Durchmesser und ist gut geeignet für die hochparallele Herstellung von polymeren Mikrolinsen. Ausgehend von weich ...
EV Group
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Die neue Gerätegeneration der 3D Laser-Lithografiesysteme, Photonic Professional GT ist die schnelle und leistungsstarke Plattform für alle Anforderungen der Mikro- und Nanofabrikation bis in die dritte Dimension. Mittels der ...
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... Das System PhableR 100 basiert auf der von der Eulitha AG entwickelten Photolithographie-Technologie PHABLE (kurz für Photonics Enabler), die es ermöglicht, hochauflösende periodische Strukturen in einem berührungslosen, nahen Photolithographie-System ...
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