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Mask Aligner / für Wafer
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... austauschbaren Wafer Chucks, die die Verwendung einer Vielzahl von Substraten und Masken ermöglichen, ohne dass Werkzeuge zur Neukonfiguration erforderlich sind. Das Ausrichtmodul enthält Mikrometer für ...

... Das EVG®610 ist ein kompaktes und vielseitiges F&E-System, das kleine Substratstücke und Wafer bis zu 200 mm verarbeiten kann. Das EVG610 unterstützt eine Vielzahl von Standardlithographieverfahren wie Vakuum-, Hart-, ...
EV Group

... ist, um hohen Produktionsanforderungen und Fabriknormen gerecht zu werden. Bedienerfreundliche Software, minimierte Zeit für Masken- und Werkzeugwechsel sowie effizienter weltweiter Service und Support machen sie zur ...
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