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Bei der Konstruktion der JBX-8100FS haben wir einen vollständig überarbeiteten Ansatz in Bezug auf Design und Leistung gewählt. Aufbauend auf unsere bewährten Lithographiesysteme, konnten wir in die JBX-8100FS Neuerungen implementieren, ...
Jeol
• Punktstrahlsystem für Direktschreiben und Maskenherstellung • Große Schreibfelder (bis zu 1mm x 1mm) • Schreibfeld 230 mm x 230 mm • Substratgröße bis 300 mm • Automatischer Einzelkassettenbetrieb oder automatisches Ladesystem (optional)
Jeol
... Schritt-und-Wiederholungs-Nanoimprint-Lithographie-System Step-and-Repeat-Nanoimprint-Lithographie für eine effiziente Master-Fertigung Das EVG770 NT ist eine vielseitige Plattform für Step-and-Repeat (S&R)-Nanoimprint-Lithografie zur ...
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