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... Durch die Injektion eines Vorläufers in das Plasma nach der Entladung trägt ULCoat dünne Schichten auf die behandelte Oberfläche auf. ULCoat ist ein System, das eine Vorstufe verdampft und unter die Plasmadüse injiziert. ULCoat wird ...
Die Maschine ist ein vorbildliches Spritzensystem der Reihe, das verschiedene harte Beschichtungen des Dosenpfands, weiche Beschichtungen, Verbundfilme und feste schmierende Filme auf den metallischen und nicht-metallischen Materialsubstraten. ...
Shanghai Royal Technology Inc.
Die Maschine Multi950 ist ein kundengebundenes Mehrfachverbindungsstellenfunktions-Bedampfensystem für R&d. Mit der Diskussion des helben Jahres mit dem Team Shanghai-Universität, das durch Professor Chen verbleit ist, bestätigten wir ...
Shanghai Royal Technology Inc.
Schauspielrahmen PECVD Dünnfilm-Beschichtungs-Maschine, sic Vakuum, das Maschine für Schauspielrahmen metallisiert FCV ist der kurze Name von Schauspielrahmen, es ist die neueste Technologie für nächste Generation von grünen Autos. ...
Shanghai Royal Technology Inc.
... Einführung in das Produkt: Die Funktion des chemischen Gasphasenabscheidungssystems besteht darin, dünne Schichten auf dem Substrat abzuscheiden, die Materialeigenschaften zu verbessern, funktionelle Geräte herzustellen, eine Oberflächenmodifikation ...
... MCVD ist die Abkürzung für Modified Chemical Vapor Deposition, was mit verbesserter chemischer Gasphasenabscheidung übersetzt wird. Das Verfahren zur Herstellung von vorgefertigten Stäben wurde erstmals Anfang der 1970er Jahre von den ...
... Die plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) ist ein Verfahren, bei dem die Energie des Plasmas zur Beschleunigung chemischer Reaktionen an der Waferoberfläche genutzt wird, um dünne Schichten bei Temperaturen unter 400 ...
... Hauptsächlich verwendet für die Erzeugung von Antireflexionsschichten höchster Qualität bei der Herstellung von kristallinen Silizium-Solarzellen und für die Abscheidung von Passivierungsschichten auf der Rückseite von Solarzellen. Graphitschiffchen ...
... Führende Leistung mit maximaler Kapitaleffizienz und Platzersparnis EPIK® 868 von Veeco ist die leistungsstärkste MOCVD-Anlage der LED-Branche, die eine überragende Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit bei geringer Defektrate ermöglicht. ...
VEECO
LEYBOLD OPTICS DLC ist ein Hochvakuum-PECVD-System (plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung) zur Auftragung von Antireflex-Beschichtungen (AR), welche hauptsächlich für Infrarot-Anwendungen (IR) von Wärmebildsystemen verwendet ...
Bühler Leybold Optics
... Wissenschaftliche Forschung Beschichtungsanlagen Experimentelle Vakuum-Beschichtungsanlagen haben die Eigenschaften eines schönen Aussehens, einer kompakten Struktur, einer vielfältigen Leistung, einer einfachen und zuverlässigen Bedienung ...
... Das Voyager PIB-CVD ist ein plasmaionenstrahlgestütztes chemisches Gasphasenabscheidungssystem (PIB-CVD), das auf der filamentfreien Endeavor RF-Ionenquelle basiert. Diese patentierte Ionenquelle ist so konzipiert, dass sowohl die Ionenstromdichte ...
... Ideal für Labortests und die industrielle Produktion von Kleinteilen Vielseitiges Gerät mit möglicher Aufrüstung zur Multilayer-Konfiguration Perfekt geeignet für: Kleine und mittelgroße Bauteile (z. B. in der Elektronik, Medizintechnik ...
COMELEC
... Die produktionserprobte Titan Deposition ist ein belastungsgeregeltes Depositionssystem mit einem Vakuumkassettenaufzug. Es kann für PECVD, HDCVD, PVD oder ALD konfiguriert werden. Die Titan Deposition bietet innovative und hochmoderne ...
Trion Technology
... Es eignet sich für das Wachstum von dichtem Aluminiumoxid und anderen Rückseitenpassivierungsfilmen im Prozess der hocheffizienten kristallinen Silizium-Perk-Batterie. Kontinuierliches Umschalten zwischen verschiedenen Filmen; Unterstützung ...
Han's Laser Technology Co., Ltd
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